光刻胶烘烤灯

在晶圆厂车间，光刻胶处理的误差裕度以纳米计量。软烘或硬烘过程中温度偏差几度，就足以导致关键尺寸偏移，影响良率。我们设计的红外光刻胶烘烤灯，旨在消除这种不确定性。 技术关键点 我们采用短波红外（NIR）发射器，将能量直接传导至光刻胶层，最大程度减少热滞后。在整个烘烤曲线范围内，实现晶圆级温度均匀度控...