化学処理エリアでの硬化ランプの安全な使用法 正直に言って、赤外線ヒーターを化学洗浄室の中に置くのは、まるで火遊びのようなものです。周囲には可燃性の溶剤や爆発性の蒸気が漂っています。ちょっとした火花や、ランプが過度に熱くなるだけで、大惨事につながりかねません。 だからこそ、私たちは単にそのランプを作...

ファブ内の熱を正確に把握する方法 スマートファブを実現するためには、まず手動でのサンプリングをやめる必要があります。それは時間がかかり、面倒であり、正直、時代遅れです。10分前のデータではなく、リアルタイムのデータが必要です。 そこで役立つのがIRセンサーです。これにより、ウェーハに触れることなく...

装置を加熱するのをやめて、ウェーハを直接加熱しましょう。 半導体製造に使われる装置の中には、まるで空気暖房のように感じられるものもありますよね？ 一般的な抵抗加熱器は効率が悪く、熱があちこちに漏れ出してしまい、チャンバ全体が温まってしまいます。問題は、実際には部屋全体を温める必要はなく、ウェーハだ...

ファブ内では、1つだけ規格を満たさないウェーハがあるだけで、大量のウェーハが廃棄処分になってしまいます。温度の均一性やクリーンルーム内の粒子数、再現性といった要素は、プレゼンテーション用のデータとしては重要ではありません。これらこそが、ウェーハを製品として使用できるかどうかを決定する重要な要素です...

ウェーハを薄くする際、ダイが露出します。そして、熱管理は交渉の余地がない重要な要素です。フォトレジストの特性、酸化物による応力、わん曲など、すべては温度制御にかかっています。わずか0.5度の温度変動でも、フィルムの応力が変わり、剥離が起こり、300mmサイズのウェーハ全体が無駄になってしまいます。...

製造現場において、温度というのは単なる設定値ではなく、重要な制約条件です。フォトレジストのソフトベイク処理時にわずか半度でも温度が変動すると、重要な寸法がずれてしまい、大量の廃棄品が出てしまいます。そのため、私たちは、実際のリソグラフィーやフォトレジスト処理で求められる熱制御の要件に合わせて、赤外...

ファブフロアでは、SiCウェーハの温度管理に余裕はない。フォトレジストのベイク中に2℃の変動があるだけでオーバーレイがずれ、ランプのプロファイルが不適切だとロット全体が不良になる。私たちはこの現実に対応するため、SiCウェーハ処理用のヒータランプを設計した。 技術的に重要な点 石英封入の短波赤外線...