安全を確保する：化学洗浄における赤外線ヒーターの利用 半導体製造工場で化学洗浄を行う場合、その危険性はご存知の通りです。揮発性が高く、可燃性のある溶剤を扱うわけですから、非常に危険な環境です。 そんな中で、赤外線ヒーターをその場所に設置するとどうなるでしょうか？わずかな電気スパークや、接続部が過熱...

なぜスマートファブには、熱を制御するために赤外線が必要なのか インダストリー4.0のファブを構築する際には、熱の扱い方を見直す必要があります。 これまで使われてきた従来型の抵抗加熱方式では、処理速度が遅すぎます。また、熱的な遅延が生じてしまい、デジタル化された生産ラインの効率を損なってしまいます。...

クリーンルーム内のキャリアを安全に守り、ウェーハを壊れないようにするために クリーンルームでは、わずかな電気的なアークや漏れ電流でさえも大惨事につながります。一瞬にして大量のウェーハが破損してしまう可能性があります。そのため、私たちはヒーターを設計する際に、周囲の電気系統に影響を与えずに、安定した...

半導体製造工場で炭素排出量を削減するには、より効率的な加熱方法が必要です。半導体製造工場でカーボンニュートラルを実現しようとすると、熱の問題を考えなければなりません。通常、最も多くのエネルギーが無駄に消費されるのがこの部分です。従来の加熱方法では、ウェーハの周囲の空気を温めるために大量の電力が消費...

なぜ、適切な赤外線ランプが包装や検査工程で静かに利益をもたらすのか ここでは、包装や検査工程における熱源について話しましょう。 単なるヒーターではありません。ここで言うのは、鋳造業界で求められる信頼性を持った赤外線ランプのことです。つまり、日々安定して機能し、問題を引き起こさないのです。 高効率な...

はじめに 現実を見ましょう。半導体製造の世界において、停止時間というのは単なる不便なだけではありません。それは大きな災害です。加熱ランプが故障すると、生産ライン全体が停止してしまいます。 そこで私たちは、半導体製造の過酷な環境に耐えられるような加熱ランプを開発しました。これらのランプは、世界有数の...

リソグラフィー工程において、ソフトベイク時の温度変動が0.5℃もあるというのは、決して小さなエラーではありません。その場合、そのロットは廃棄されます。私たちは、プロセスの範囲内で温度を安定させるために、半導体ヒーター部品を中国で製造しています。これにより、1時間ごと、シフトごとにも温度が安定し続け...

ファブの現場では、ベーク温度が0.5℃変動するだけで、ウェーハの寸法に影響が出し、多くのウェーハが廃棄処分となってしまいます。半導体の製造においては、わずかな温度変動も許されません。フォトレジストのソフトベークやハードベークにおいては、再現性のある温度設定が不可欠です。つまり、すべてのスロットで、...

ファブ内では、すぐに学べます。0.3℃というわずかな温度変動でも、露光条件が変わってしまいます。また、端の部分が過度に加熱されると、再びコータートラックで品質を確保する必要があります。ウェーハは、温度の不均一性を許しません。 技術的に重要な点 私たちが開発したNIRオーブンの加熱要素は、石英製のハ...

ファブの現場では、フォトレジスト処理中の温度変動は「いつか起こるかもしれない」という問題ではありません。これは、製品の品質を静かに悪化させる要因です。ソフトベイク時の温度が0.5°C変動するだけで、重要な寸法の制御が崩れてしまいます。また、ハードベイクの際に温度が均一でなければ、エッチング後に不良...

ファブ内では、フォトレジストの焼成時に2℃の温度変動が生じると、CD値が変わってしまうだけでなく、何時間ものリソグラフィー処理時間が無駄になります。また、本来出荷可能だったウェーハも廃棄処分になってしまいます。性能が不十分なヒーターを使うと、熱管理が困難になり、再検証のための時間も余計にかかってし...