팹 내에서 온도는 단순한 설정 값이 아니라, 매우 중요한 기준입니다. 포토레지스트를 소프트 베이크하는 과정에서 온도가 반도 정도만 변해도 치명적인 결과를 초래할 수 있습니다. 그래서 우리는 리소그래피 및 포토레지스트 처리 과정에서 요구되는 열 제어 기능을 바탕으로 적외선 가열 모듈을 설계했습니다. 즉, 반복 가능한 열 공급이 가능하며, 어떠한 타협도 허용되지 않습니다.
기술적으로 중요한 점 우리는 빠른 반응 속도와 정밀한 스펙트럼 제어가 가능한 단파 적외선 방출기를 사용하여 웨이퍼를 직접 가열합니다. 이를 통해 열 지연이 줄어들고, 챔버의 영향도 최소화됩니다. 공정 전체 동안 웨이퍼의 온도 균일성은 ±0.1°C 이내로 유지되므로, 포토레지스트의 흐름과 용매 제거가 안정적으로 이루어집니다. 또한 하드 베이크 과정에서도 일관된 교차결합이 이루어집니다.
클린룸 등급 1–100에 맞게 설계되었으며, 낮은 가스 배출량, 밀폐된 광학 구조, 그리고 입자 발생 없는 구조를 갖추고 있습니다. 이 시스템은 연속적으로 작동해도 열적 안정성을 유지할 수 있으므로, 정기적인 유지보수를 통해 24/7으로 작동할 수 있습니다.
생산 현장에서 왜 효과적인가? 이 장비를 생산 라인에 도입하면 웨이퍼 건조, 포토레지스트 예비 베이크, 노출 후 베이크 과정에도 문제없이 사용할 수 있습니다. 정밀한 온도 제어 덕분에 CD의 변동이 줄어들고, 전체 생산량도 향상됩니다. 빠른 설정 변경 덕분에 공정 시간이 단축되고, 웨이퍼당 에너지 소비도 줄어듭니다. 또한 안정적인 열 환경 덕분에 표면 결함도 줄어들어 재작업도 줄어듭니다.
결과적으로 온도 변동이 줄어들고, 포토레지스트의 성능도 일관되게 유지되며, 공정도 매번 동일한 결과를 보입니다.
주의해야 할 사항 적외선 가열은 직선 방식이므로, 웨이퍼의 형태와 캐리어 디자인이 지역별 온도 분포에 영향을 미칩니다. 우리는 검증된 열 관리 시스템을 제공합니다. 즉, 방출기의 위치, 반사체의 형태, 센서 피드백 등을 통해 실리콘 웨이퍼, 패턴이 있는 웨이퍼, 고급 스택 등 다양한 경우에도 목표 온도를 달성할 수 있습니다.
자신이 사용하는 포토레지스트와 기판의 특성에 맞게 시스템을 조정해야 합니다. 또한 출력 파워와 크기가 코팅기나 베이커 인터페이스와 호환되도록 해야 하므로, 설치하기 전에 기계적, 전기적 제약 사항을 반드시 확인해야 합니다.